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辉光放电质谱/光谱仪(GD-MS/OES)

主要应用:
高纯金属材料
半导体材料
光伏材料
先进合金
核材料
涂层与镀层

1.项目介绍

辉光放电质谱/光谱(GD-MS/OES)是一种以辉光放电源为离子源,与质谱仪或光谱仪联用的分析技术。该技术将辉光放电离子源与高分辨率质谱仪结合,主要用于高纯度无机固体材料的成分分析,一次扫描即可检测从锂(Li)至铀(U)范围内所有元素的含量。


2.样品要求

2.1 块体样品:最小尺寸不小于 3 mm × 3 mm,最大不超过 50 mm × 50 mm × 50 mm,建议尺寸为 25 mm × 25 mm × 5 mm 或相近尺寸。样品表面需平整光滑,相当于经 1000 目砂纸打磨后的平整度。

2.2 粉末样品:需根据具体样品判断用量,建议尽量多提供(约 10 g),粒度尽可能小,且能够压制成片状,压制后需满足块体样品的尺寸要求。

2.3 针状样品:需提供 2 mm × 2 mm × 22 mm 的针状样品。

2.4 样品纯度建议在 3N(99.9%)至 8N(99.999999%)之间。

2.5 GD-MS 属于微型破坏性测试,溅射直径约为 8 mm。

2.6 溅射深度一般为几微米至几十微米,纳米级薄膜材料的测试存在一定风险。


3.常见问题

3.1 材料的纯度要求是多少?

最高可以测试到8N,纯度过低(例如2N)数据会相对不准确,纯度超过8N,所有数据结果以检出限形式体现。  相对适合的纯度测试范围是2N-8N。

3.2 溅射直径是多大?

GD-MS是一种微型破坏性测试,溅射直径8mm。

3.3 可以检测的深度可以达到多大?

溅射深度与测试参数、时间相关,一般为几微米到几十微米。 几百nm的薄膜需要看是什么材料,不一定能测。

3.4 检测的元素范围是Li-U吗?是半定量分析吗?

是的,全元素一共74种元素,不包括惰性元素、CNOH气体元素、放射性元素等不稳定元素。辉光放电质谱:可得到元素半定量数据。


辉光放电质谱/光谱仪(GD-MS/OES)
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